第一情报 ---材料工业

辐射线抗蚀剂(光刻胶)2003年度的发展

供稿人:ISTIS  供稿时间:2006-10-26   关键字:辐射线抗蚀剂  光刻胶  
电子化学品(Electronic Chemicals)是电子信息产业快速发展的基础支撑。如果没有电子化学品(如光刻胶)的更新作为技术支撑,就不可能实现集成电路(IC)产品如此快速的更新换代。进入九十年代后,随着“信息高速公路”的发展,信息产业越来越受到人们的重视,发展速度之快,几乎超过人们的预料。与之相配套的世界电子化学品平均年增长率也保持在8%以上,是化工行业中发展最快的部门之一。
 
虽然电子化学品市场在2001年度饱经风霜,美国咨询公司Freedonia集团公司依然认为,电子化学品的市场前景从长期看比较乐观,市场需求在今后两年将保持强劲的增长势头,目前全球用于半导体和印刷电路板领域的电子化学品市值已达210亿美元,从现在起至2004年,全球电子化学品的需求将以年均9.3%的高速度发展。印刷电路板用化学品需求年均增速相对较低,但也达4%,届时的市场值为122亿美元。预计到2005年,世界电子化学品的市场规模将超过300亿美元。从各地区来看,据IAL咨询公司预计,到2004年,电子化学市场的年均增长率北美8.3%,日本6.0%,亚太地区(日本除外)9.2%,西欧9.9%,其他地区29.2%。
 
辐射线抗蚀剂(光刻胶)是指通过紫外光(UV)、电子束(EB)、准分子激光束(KrF248nm和ArF193nm)、X射线、离子束等照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,主要用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。经曝光和显影而使溶解度增加的是正型光刻胶,溶解度减小的是负型光刻胶。
 
光刻胶产品在微细加工技术中的应用将随着高集成度、超高速、超高频集成电路及元器件的开发,集成电路与元器件特征尺寸越来越精细的趋势,其加工尺寸将达到深亚微米、百纳米直至纳米级。为了适应微电子行业亚微米图形加工技术要求,光刻胶的开发已从普通紫外光发展到紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电子束胶、X射线胶、离子束胶等。目前的开发重点是深紫外光刻胶和电子束化学放大抗蚀剂(CAR)。
 
目前,国际上主流的光刻胶产品是分辨率在0.25μm~0.18μm的深紫外正型光刻胶,主要的厂商包括美国Shipley、日本东京应化和瑞士的克莱恩等公司。2001年全球半导体光刻胶市场总规模为6.63亿美元,比2000年的8.59亿美元下降了23%。美国BRG咨询公司的专家分析预测,光刻胶的需求年均增长速度较高,可达8%,到2004年其市值将达8.25亿美元;光刻胶显影剂和脱除剂的需求也将以相同的速度增长,市值将分别达3.82亿美元和1.33亿美元。

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