第一情报 ---材料工业

基于专利和论文的纳米压印技术发展现状研究(上)

供稿人:杨莺歌  供稿时间:2011-2-15   关键字:纳米压印  专利分析  论文  
1995年美国“明尼苏达大学纳米结构实验室”提出并展示了一种叫做“纳米压印”(nanoimprint lithography)的新技术。纳米压印技术采用绘有纳米图案的刚性压模将基片上的聚合物薄膜压出纳米级图形,再对压印件进行常规的刻蚀、剥离等加工,最终制成纳米结构和器件。它可以大批量重复性地在大面积上制备纳米图形结构,并且所制出的高分辨率图案具有相当好的均匀性和重复性。该技术还有制作成本极低、简单易行、效率高等优点。因此,与极端紫外线光刻、X射线光刻、电子束刻印等新兴刻印工艺相比,纳米压印术具有不逊的竞争力和广阔的应用前景。
 
本文基于专利和论文角度对纳米压印技术的发展现状进行分析。专利检索自Derwent Innovations Index数据库,根据优化的检索策略,截止至2010年底,共检索得专利1122项(已合并同族专利数);论文检索自Web of Science,截止至2010年底,共检索得论文3869篇。
 
1. 纳米压印进入技术成熟期
图1 纳米压印专利和论文趋势图
 
纳米压印基本专利公开年份同专利数量关系如上图中蓝线所示,从1998年第一篇纳米压印专利出现以来,数量一直保持明显的增长态势,近几年的增速减缓。而纳米压印论文的数量在2007年达到了迄今为止的至高点,2008年以来略有下降。显示出纳米压印技术经过十余年的发展,已进入技术成熟期。
2. 美国亚洲占据优势地位
图2 纳米压印论文国家和地区分布图
 
从论文数量来看,美国占据着绝对领先的地位,日本和韩国差距不大,分居二、三位。而从专利可看出,纳米压印技术发源地美国的专利数量虽然占据首位,但从专利总量来看,与日本的差距已经不大。而亚洲其他国家或地区,如韩国、中国大陆和台湾地区也不甘落后,已在纳米压印技术研究方面占据了一席之地。另外,日本在专利方面的表现明显优于论文,显示出日本更加注重纳米压印技术的产业化。
 
图3 纳米压印专利优先权国家和地区分布图

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