第一情报 ---材料工业

基于专利和论文的纳米压印技术发展现状研究(下)

供稿人:杨莺歌  供稿时间:2011-2-15   关键字:纳米压印  专利分析  论文  
上文比较了纳米压印专利和论文的总体趋势和地域分布,本文将对纳米压印研究的主要机构和主要技术领域通过专利和论文进行分析。
 
3. 基础应用研究分工明显
对检索得到的纳米压印专利专利权人进行排名,除去以个人名义申请的专利权人,余下的在纳米压印技术专利公开前10家公司或研究机构见下表:
排名
专利数量
公司或研究机构
1
44
MOLECULAR IMPRINTS INC
2
41
HEWLETT-PACKARD DEV CO LP
3
36
FUJI FILM CO LTD
4
33
UNIV TEXAS SYSTEM
5
32
SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
6
31
CANON KK
7
27
ASML NETHERLANDS BV
8
24
LG ELECTRONICS IN
9
23
DAINIPPON PRINTING CO LTD
10
22
TOSHIBA KK
 
论文数量排名前10位的机构名称见下表:
排名
论文数量
公司或研究机构
1
93
UNIV TWENTE
2
 89 
HARVARD UNIV
3
 86 
NATL INST ADV IND SCI & TECHNOL
4
 82 
KOREA UNIV
5
 79 
UNIV MICHIGAN
6
 77 
CNRS
7
 77 
UNIV ILLINOIS
8
 76 
PRINCETON UNIV
9
 71 
KOREA INST MACHINERY & MAT
10
 64 
SEOUL NATL UNIV
 
专利数量排名前10位的全部是公司,而论文数量排名前10位的全部是大学或研究所。显而易见,研究机构在纳米压印技术的基础研究方面贡献大,而公司更关注纳米压印的应用和产业化研究。
 
4. 半导体器件是研究热点
通过国际专利分类号统计可知,H01L主分类号数量达到603项,占总专利量的53.7%,充分显示出这类主题为目前世界主要竞争国家及公司研发的重点是半导体器件。其次为B29C和G03F两类,但与最多的还有明显的差距。
图4 纳米压印专利排名前4位的4位主分类号
主要IPC号及相关技术领域
数量
IPC
技术领域
603
H01L
半导体器件
391
B29C
塑料的成型或连接;塑性状态物质的一般成型
344
G03F
图纹面的照相制版工艺
138
B82B
超微结构;超微结构的制造或处理
 
从发表论文的学科类别来看,物理应用类的论文数量最多,达到42.9%,其次为纳米科学和纳米技术、材料科学、工程等。结合专利分类号的分析,可知,半导体器件等应用物理方面成为纳米压印技术的研究热点。
图5 纳米压印论文排名前4位的学科分类

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