EUV光刻设备国内外专利分析之顶尖专家

光刻机是集成电路制造的核心装备，其技术水平决定了集成电路的集成度。光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。当今最先进的半导体光刻工艺使用EUV光源，EUV光刻是制造下一代半导体芯片的关键步骤。本文聚焦EUV光刻设备，对相关国内外专利进行统计分析（检索时间2023.02，检索平台：Incopat）。

全球EUV光刻设备专利技术顶尖专家

全球前50位发明人中，几乎所有的发明人与卡尔蔡司公司、ASML公司和台积电公司相关。ASML公司的Banine Vadim Yevgenyevich，卡尔蔡司的Ehm Dirk Heinrich和ASML公司的Loopstra Erik分别以235件、127件和118件专利位列前三。没有中国发明人入围全球前50专利发明人。

表1：EUV光刻设备技术全球TOP50专利发明人

排名	发明人	关联机构	专利数量	排名	发明人	关联机构	专利数量
1	Banine Vadim Yevgenyevich	ASML	235	27	Laufer Timo	卡尔蔡司	38
2	Ehm Dirk Heinrich	卡尔蔡司	127	28	Masaki Ohashi	信越化学	37
3	Loopstra Erik	ASML	118	28	Van De Kerkhof Marcus Adrianus	ASML	37
4	Michael Patra	卡尔蔡司	93	30	Johannes Ruoff	卡尔蔡司	33
5	Singer Wolfgang	卡尔蔡司	90	30	Yen Cheng Lu	卡尔蔡司	33
6	Li Jui Chen	台积电	86	32	陈立锐	台积电	32
7	Endres Martin	卡尔蔡司	84	33	Mann Hans Jürgen	卡尔蔡司	31
8	Andrei Mikhailovich Yakunin	ASML	81	33	Moritz Becker	卡尔蔡司	31
9	Moors Johannes Hubertus Josephina	ASML	71	35	Wangler Johannes	卡尔蔡司	30
10	Bakker Levinus Pieter	ASML	68	36	Van Herpen Maarten Marinus Johannes Wilhelmus	ASML	29
11	Shang Chieh Chien	台积电	66	37	Boris Bittner	ASML	27
12	SoerWouter	ASML	62	37	Norbert Wabra	卡尔蔡司	27
13	Toralf Gruner	卡尔蔡司	60	39	陈政宏	台积电	26
14	Dinger Udo	卡尔蔡司	59	40	Heng Hsin Liu	台积电	25
15	Van Zwol Pieter Jan	ASML	59	40	Ossmann Jens	卡尔蔡司	25
16	Janssen Paul	ASML	56	40	Weiss Markus	卡尔蔡司	25
17	Joachim Hartjes	卡尔蔡司	55	43	Chia Chen Chen	台积电国际商业机器公司	24
18	JengHorng Chen	台积电	53	43	Jak Martin	ASML	24
19	Anthony Yen	台积电	52	43	Ulrich Wilhelm	卡尔蔡司	24
20	Hans Juergen Mann	卡尔蔡司	50	46	Chin Hsiang Lin	台积电	23
21	Kwan Yim Bun Patrick	卡尔蔡司	49	46	Koji Hasegawa	信越化学	23
22	Stefan Wolfgang Schmidt	卡尔蔡司	49	46	Melzer Frank	卡尔蔡司	23
23	Hartmut Enkisch	卡尔蔡司	48	46	Wedowski Marco	卡尔蔡司	23
24	Po Chung Cheng	台积电	47	46	严涛南	台积电	23
25	Shinn Sheng Yu	台积电	46	46	游信胜	台积电	23
26	Jun Hatakeyama	信越化学	45

中国EUV光刻设备专利技术顶尖专家

中国前30位发明人中，有13位发明人来自国外机构，其中11位来自荷兰的ASML公司。国内发明人最多的机构为台积电，有7位发明人进入前30名。

中国发明人分析显示出比较明显的团队合作。比如哈尔滨工业大学有3人进入前30。而现工作于中国科学院微电子研究所的吴晓斌、谢婉露、陈进新、王宇和王魁波团队，都来自中国科学院光电研究院，并且他们在中国科学院光电研究院申请的相关专利目前专利权人都为中国科学院微电子研究所。

中国科学院上海光学精密机械研究所的王向朝作为发明人申请的相关专利中，有2件专利申请人为上海微电子装备有限公司，显示出两家机构的合作关系。

表2：EUV光刻设备技术中国TOP30发明人

排名	发明人	关联机构	专利数量	排名	发明人	关联机构	专利数量
1	v·y·班尼恩	ASML	36	16	谢婉露	中国科学院微电子研究所中国科学院光电研究院	13
2	陈立锐	台积电	25	17	刘恒信	台积电	12
3	e·鲁普斯特拉	ASML	23	18	陈进新	中国科学院微电子研究所中国科学院光电研究院	12
4	w·a·索尔	ASML	21	19	m·a·范德凯克霍夫	ASML	12
5	严涛南	台积电	20	20	a·m·雅库尼恩	ASML	11
6	李艳秋	北京理工大学中国科学院电工研究所	20	21	m.帕特拉	卡尔蔡司	11
7	j·h·j·莫尔斯	ASML	20	22	保罗·詹森	ASML	11
8	简上杰	台积电	18	23	卢彦丞	台积电	11
9	吴晓斌	中国科学院微电子研究所中国科学院光电研究院	15	24	徐强	哈尔滨工业大学	11
10	陈政宏	台积电	15	25	王宇	中国科学院微电子研究所中国科学院光电研究院	11
11	a·亚库宁	ASML	14	26	王骐	哈尔滨工业大学	11
12	彼得-詹·范兹沃勒	ASML	14	27	赵永蓬	哈尔滨工业大学	11
13	游信胜	台积电	14	28	王向朝	中国科学院上海光学精密机械研究所上海微电子装备有限公司	10
14	l·p·巴克	ASML	13	29	王魁波	中国科学院微电子研究所中国科学院光电研究院	10
15	m·m·j·w·范赫彭	ASML	13	30	大桥正树	信越化学	9

（数据来源：上图上情所研究整理）