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光刻机是集成电路制造的核心装备,其技术水平决定了集成电路的集成度。光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术,是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。当今最先进的半导体光刻工艺使用EUV光源,EUV光刻是制造下一代半导体芯片的关键步骤。本文聚焦EUV光刻设备,对相关国内外专利进行统计分析(检索时间2023.02,检索平台:Incopat)。
全球EUV光刻设备专利技术运营保护
EUV光刻设备技术全球专利中,有效专利2686件(占37%),在审专利1219件(占16%),失效专利2615件(占36%)。在专利运营方面,转让专利高达2639件,可见EUV光刻设备技术专利被收购、整合的情况较为普遍。
图1:全球专利法律状态
(数据来源:上图上情所研究整理)
图2:全球专利运营状态
(数据来源:上图上情所研究整理)
中国EUV光刻设备专利技术运营保护
EUV光刻设备技术中国专利中,有效专利355件(占46%),在审专利199件(占26%),失效专利215件(占28%),中国专利有效率高于全球专利有效率。在专利运营方面,转让专利只有54件,可知EUV光刻设备技术专利在中国运营不活跃。
图3:中国专利法律状态
(数据来源:上图上情所研究整理)
图4:中国专利运营状态
(数据来源:上图上情所研究整理)