EUV光刻设备国内外专利分析之运营保护

光刻机是集成电路制造的核心装备，其技术水平决定了集成电路的集成度。光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。当今最先进的半导体光刻工艺使用EUV光源，EUV光刻是制造下一代半导体芯片的关键步骤。本文聚焦EUV光刻设备，对相关国内外专利进行统计分析（检索时间2023.02，检索平台：Incopat）。 

全球EUV光刻设备专利技术运营保护

EUV光刻设备技术全球专利中，有效专利2686件（占37%），在审专利1219件（占16%），失效专利2615件（占36%）。在专利运营方面，转让专利高达2639件，可见EUV光刻设备技术专利被收购、整合的情况较为普遍。

图1：全球专利法律状态

（数据来源：上图上情所研究整理）

图2：全球专利运营状态

（数据来源：上图上情所研究整理）

 中国EUV光刻设备专利技术运营保护

EUV光刻设备技术中国专利中，有效专利355件（占46%），在审专利199件（占26%），失效专利215件（占28%），中国专利有效率高于全球专利有效率。在专利运营方面，转让专利只有54件，可知EUV光刻设备技术专利在中国运营不活跃。

图3：中国专利法律状态

（数据来源：上图上情所研究整理）

图4：中国专利运营状态

（数据来源：上图上情所研究整理）