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高硅钢（含硅6.5wt%）具有优异的软磁性能，如高磁导率、高电阻率、低铁损、几乎为零的磁致伸缩系数等，这些特点有助于电器提高效率、降低噪音，实现小型化和节能降耗。然而，高硅钢中有序相的出现，使得高硅钢与低硅钢相比，硬度和脆性急剧升高，难以采用常规轧制方法加工成型，从而阻碍了其广泛应用。虽然日本已利用化学气相沉积（CVD）工业化生产高硅钢带材，但因CVD法能耗高、设损耗大、成本高，并且中间产物氯化亚铁（FeCl2）废气严重污染环境，高硅钢的制备工艺仍需要进一步优化，以适应工业生产的要求。本文介绍国内外一些具有代表性的高硅钢制备工艺。
Kawasaki Steel Co在专利JP58053694B中提供了一种磁性能优良的无取向高硅钢带的制造方法。在含硅量为2%-8%的钢水中含有抑制晶粒一次生长的元素，例如S、Se、Te、As、Sb、Bi、B等，钢水从喷嘴连续喷出到移动的冷却面上，快速冷却凝固成薄钢带。通过不抽真空的普通退火或快速升温退火，使薄钢带快速凝固，从而得到优良的硅钢薄钢带。
Tsuya Noboru在专利JP60032705B中公开了一种含有5.0%～8.0%硅且矫顽力Hc为0.10e以下的(100)面内无取向高硅钢带及其制造方法。该发明将钢水喷洒到高速旋转的冷却装置中，以超高冷却速度冷却成薄带后，在不轧制钢带的情况下，在特定温度下对钢带进行退火，从而制造出具有极低矫顽力的高硅钢薄带。
Matsushita Electric Ind Co Ltd申请公开的专利JP59016925A揭示了一种高硅铁薄带的制造方法。该方法是在超快速冷却条件下轧制高硅铁薄带的表面，然后对其进行热处理。在实施例中，采用单辊法生产含硅6.5%的高硅铁薄带，旋转速度为2000rpm；该样品被冷轧至0.1mm的厚度，然后对其进行热处理。该方法易于使用，适合大规模生产，还具备将铁损降至最低的优点。
北京科技大学王帅在其博士学位论文中报道，通过研究快速凝固工艺，成功制备出质量良好的Fe-6.5wt.%Si高硅钢薄带，并对甩态组织与性能、热处理组织演变及磁性能调控、防粘连薄膜等进行研究，还将高硅钢薄带应用于高频电抗器与高速电机。
东北大学在专利CN103060701B中公开了一种无取向高硅电工钢薄带及其制备方法。所述无取向高硅电工钢薄带的化学成分，按重量百分比为：Si 4.5%～7.0%，Cr 2.0%-5.0%，Al 0.06%～1.0%，Mn 0.3%～0.8%，N≤0.005%，S≤0.004%，P≤0.02%，O≤0.003%，C≤0.005%，余量为Fe；薄带厚度0.35mm-0.5mm。制备方法包括以下步骤：首先无取向高硅钢在真空冶炼炉中进行冶炼；然后进行双辊薄带铸轧；浇铸温度1420℃～1460℃，铸带厚度1.0～1.5mm；铸带在800℃～1100℃进行热轧，热轧带厚度为0.8-1.0mm；然后进行酸洗，酸洗后薄带预热400℃～700℃进行温轧；最后进行退火。该发明通过添加Cr元素使高硅钢铸带加工性能明显提高，其铁损值与现有高硅钢产品的铁损水平相当，磁感应强度则高于现有产品0.03T以上。
