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半导体产业是支撑现代科技发展的基石,对人工智能、通信、能源等关键领域具有战略意义,全球各国持续加大投入以抢占技术制高点。在产业界和科研界不断努力下,半导体技术持续实现突破,如麻省理工学院通过垂直堆叠逻辑与存储单元,研制出低缺陷、高能效的存储晶体管,有望显著降低AI芯片功耗,缓解数据中心因AI爆发带来的能源压力;Wolfspeed公司则成功量产全球首批300毫米单晶碳化硅晶圆,推动SiC技术迈入新阶段,大幅提升AI数据中心、AR/VR设备及高压电力系统的能效与集成度。
StartUs Insights公司是一家总部位于奥地利维也纳的全球科技情报与创新分析公司,利用人工智能(AI)为大型企业、投资机构和政府提供新兴技术趋势、初创企业发现和行业创新洞察服务。他们对 2000 多家半导体初创企业和成长型企业深入研究,于2026年1月发布《2026年半导体十大趋势和创新》报告。
StartUs Insights依托自主研发的 StartUs Insights Discovery Platform编制报告,该平台覆盖全球超过700万家初创企业、2万项技术与趋势,以及1.5亿余份专利、新闻文章和市场研究报告。首先评估自有数据库中的初创企业数据,并结合外部研究资料(包括行业报告、新闻报道和市场分析)进行交叉验证,从而识别出半导体行业中最具影响力和创新性的技术趋势。针对每一项趋势,选择两家具有代表性的初创企业。
2026年及以后十大半导体技术趋势是:
1. AI计算与定制芯片爆发式增长
随着人工智能重塑数据中心的经济模型,超大规模云服务商(hyperscalers)的资本支出大幅攀升。2024年,亚马逊、微软、Alphabet 和 Meta 的资本支出合计同比增长约54%,年新增投入近800亿美元,凸显AI已成为投资的核心优先级。
摩根士丹利预计,2025年全球AI相关支出将达到3000亿美元;HyperFrame Research已将其预测上调16%,至3350亿美元。据《卫报》报道,截至2025年年中,全球AI总支出已超过1550亿美元,预计下一财年将突破4000亿美元。
这场AI算力浪潮的核心是英伟达(NVIDIA)。其数据中心收入2026财年第一季度(截至2025年5月28日)飙升至391亿美元,同比增长73%。其GB200 NVL72架构相较H100可提供高达30倍的大语言模型(LLM)推理性能,推理令牌生成量增长了十倍。
然而,冷却基础设施和服务器供应亟需跟上需求。随着资金从通用系统转向GPU和专用ASIC,预计2025年AI服务器出货量将增长逾20%。单机柜功耗已达130–140 kW,谷歌更指出新一代AI设施正迈向“每机柜1兆瓦”设计。在此背景下,液冷技术采用率预计将从2024年的14%激增至2025年的33%以上,增长超四倍。与此同时,电力消耗规模持续扩大。国际能源署(IEA)指出,AI将成为推动全球数据中心用电量增长的首要因素。
网络设备供应商亦从中受益。2025年第一季度,博通(Broadcom)AI半导体收入达41亿美元(同比增长77%),第二季度进一步增至超44亿美元(同比增长46%),反映出超大规模客户正将定制ASIC与英伟达平台协同部署。
Arm公司预计,到2025年,近50%的超大规模计算将基于Arm架构;IDC则预测Arm服务器出货量将增长70%。
为满足AI加速器的强劲需求,台积电(TSMC)计划在2025年再度扩大其“芯片-晶圆-基板”(CoWoS)先进封装产能。
代表性初创企业:
Rebellions:提供领域专用AI处理器
Rebellions是一家韩国初创公司,专注于开发领域专用AI处理器。该公司通过融合硅基硬件架构与深度学习算法来构建AI加速器。其核心技术采用“硅核”(silicon kernels)动态重构处理器架构,使其适配复杂的深度学习算法。这种专用AI硬件可显著加速机器学习计算、提升性能并降低部署成本。
SEMIFIVE:提供定制化芯片平台
SEMIFIVE是另一家韩国初创企业,提供面向特定用途的定制芯片平台。该平台集成经过硅验证的IP核与优化的设计方法学,以提升系统级芯片(SoC)解决方案的整体效能。其流程采用持续集成与持续部署(CI/CD)覆盖整个配置周期,并将客户需求直接融入设计阶段,支持环境仿真与潜在问题分析。这一方法使中小企业在减少外包依赖的同时,有效降低成本、控制风险并缩短交付周期。
2. 芯粒、3D IC 与先进封装
人工智能(AI)和高性能计算(HPC)的需求正推动先进封装市场快速增长。2025年第二季度,该领域收入已突破120亿美元,预计到2030年将飙升至830亿美元。更广泛的3D IC与2.5D IC封装市场将以10.7%的复合年增长率(CAGR)扩张,预计到2034年市场规模将达到1675.7亿美元。据Coherent Market Insights(CMI)预测,全球先进芯片封装市场规模将在2025年达到503.8亿美元,并于2032年增至798.5亿美元。
产能扩张由台积电(TSMC)引领。其CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate)封装产能在2022至2026年间以约50%的CAGR增长。
封装形态正突破光刻机掩模版尺寸限制。2025年,业界已开始量产接近6倍掩模版面积(约5148 mm²)的“超级载板”(super-carrier)中介层(interposer)。目前,台积电CoWoS-S中介层面积约为3.3倍掩模版(约2700 mm²)。这一演进得到英伟达封装策略的支持。尽管近两年内CoWoS产能已提升四倍,封装环节仍是制约产能的关键瓶颈。安靠(Amkor)计划在2025年投入约8.5亿美元用于高密度扇出型封装(Fan-Out)、系统级封装(SiP)及测试能力建设。日月光(ASE)则因AI对先进封装产线的巨大压力,将2025年资本支出提高至约55亿美元,并将其槟城工厂面积从约100万平方英尺扩建至340万平方英尺以应对需求。
3D堆叠与混合键合(Hybrid Bonding)技术也在加速发展。设备制造商预计2025年下半年对混合键合的需求将持续上升,而英特尔正大力推广其Foveros Direct技术(铜-铜直接键合)。
代表性初创企业:
TSD Semiconductor:研发先进封装设备
TSD Semiconductor(北京特思迪半导体设备有限公司)是一家中国初创公司,专注于先进封装设备制造。其产品线包括晶圆减薄、化学机械清洗、研磨及抛光设备,广泛应用于倒装芯片(Flip Chip)组装、晶圆凸点(Wafer Bumping)及系统级封装(SiP)生产。其表面处理设备可帮助芯片制造商实现更薄的芯片厚度,从而优化半导体性能并提升电学表现。
JetCool:提供芯片级液冷技术
JetCool 是一家美国初创企业,开发“流体直触封装”(fluid-to-package)冷却解决方案。该技术采用微对流液体冷却原理,通过密集流体喷射阵列直接冷却芯片表面,显著提升高功耗微电子器件的散热效率。其直触芯片(direct-to-chip)冷却方式无需导热硅脂或界面材料,节省空间,有利于高密度先进封装。此外,FleX 与 JetCool 正合作开发支持液冷的AI与高密度计算服务器。
3. 高带宽存储器(HBM)
高带宽存储器(HBM)凭借在成本与性能上的综合优势,正迅速成为AI系统的核心组件。因其在AI加速器中的关键作用,HBM收入预计将在2025年翻倍,达到近340亿美元。
HBM在DRAM总价值和总容量中的占比持续攀升:2024年已占DRAM销售额的约20%;其占DRAM总比特容量的比例也从2023年的2%、2024年的约5%,预计在2025年将超过10%。HBM已成为整个存储产业的关键增长引擎。Yole Group预测,2025年全球存储市场总收入将接近2000亿美元。2025年初,HBM价格预计上涨5–10%,TrendForce则预测其总可寻址市场(TAM)规模将超360亿美元。
SK海力士(SK hynix)于2025年3月已向客户交付12层堆叠的HBM4样品,带宽突破2 TB/s;而36 GB容量的12-high HBM3E已于2024年底进入量产,单堆栈带宽超1.2 TB/s。系统架构也在同步演进。美光(Micron)预计到2025财年末将占据23–24%的HBM市场份额,其2025财年第三季度HBM销售额环比上季度增长约50%。
此外,Compute Express Link(CXL)等以内存为中心的互连架构正逐步落地实际应用。三星此前已展示512 GB CXL内存模块,并已开始大规模量产128 GB CXL 2.0 DRAM。
代表性初创企业:
UnifabriX:开发CXL内存解决方案
UnifabriX 是一家以色列初创公司,提供基于CXL的“Fabric上的内存”(Memory over Fabrics)解决方案。其系统在一个2U机箱内集成32 TB DDR5 DRAM,并通过CXL/UALINK协议在服务器间共享内存资源。该方案构建了快速、可扩展且高效的AI与高性能计算(HPC)数据中心内存基础设施,帮助企业显著降低DRAM使用量与总体成本。
XCENA:推出计算型内存
XCENA 是一家韩国公司,开发“计算型内存”(Computational Memory)——一种基于CXL、以内存为中心的架构,将计算单元嵌入内存模块中,使计算更靠近数据,减少数据搬运开销。该架构利用数千个自研64位RISC-V核心卸载主处理器计算任务,并通过垂直优化的片上缓存缓解外部内存访问延迟。同时支持软件定义的内存资源分配,减少DRAM闲置,提升系统效率。该公司已于2025年8月在“未来存储与内存大会”(FMS)上发布了其MX1计算型内存产品。
4. 汽车芯片:单车硅含量与ECU物料清单成本约2300美元
电子系统正驱动汽车的关键功能,包括软件定义架构、电动化以及安全合规性。每辆汽车中半导体与电子控制单元(ECU)含量的持续提升,是硅在汽车领域实现结构性增长的显著标志。
根据标普全球移动出行(S&P Global Mobility)的估算,2025年全球平均每辆车的ECU成本为1982美元,北美地区则达2256美元。汽车半导体行业预计将以7.29%的复合年增长率(CAGR)持续扩张,市场规模将在2025年达到1005亿美元,并于2030年增至1428.7亿美元。
随着软件定义汽车和ADAS需求不断攀升,且库存周期趋于稳定,标普全球预计汽车半导体在2025–2026年将实现16.5%的同比增长。全球轻型车(LV)销量预计将在2025年达到8960万辆,为半导体单车含量的增长奠定基础。车辆销量仍是支撑该增长的核心支柱。
此外,车载计算平台正快速扩张。高通2025财年第三季度汽车业务销售额达9.84亿美元,同比增长21%。公司目前拥有450亿美元的设计订单管道,其中约150亿美元来自ADAS相关项目。英伟达在2026财年第一季度报告汽车业务收入为5.67亿美元(同比增长72%),主要由L2+级平台和集中式计算架构的增长驱动。
然而,需求也受到法规要求的锁定。智能速度辅助(ISA)、自动紧急制动(AEB)、车道保持等要求正作为欧盟《通用安全法规》(GSR,2024–2029年实施)的一部分,被集成到摄像头、雷达、微控制器(MCU)和车载网络芯片中。
汽车电子架构也正从多个独立ECU转向中央计算单元与区域/域控制器相结合的模式。2025年,用于域连接的车载以太网市场规模预计将达到33.6亿美元,并有望实现两位数增长。随着ADAS技术日益普及,单车电子物料成本持续上升,高端市场已将硅芯片(含ECU物料清单)预算设定在每辆车约2000至2300美元。
代表性初创企业:
云途半导体:开发车规级芯片组
中国无晶圆厂半导体初创公司云途半导体(Yuntu Semiconductor)开发车规级芯片组。该公司专注于集成电路设计,为客户提供自主芯片组解决方案。其车规级微控制器(MCU)芯片具备高稳定性与高安全性,适用于电子控制单元(ECUs)、发动机、燃油系统、信息娱乐系统、自动驾驶系统等场景。
Lidwave:开发汽车系统级芯片
以色列初创公司Lidwave开发汽车专用系统级芯片(SoC)。其专利传感架构适用于3D感知行业,采用基于时间的轻量化片上系统设计。该方案使制造商能够开发不受带宽限制的激光雷达(LiDAR)解决方案,从而提升驾驶辅助系统的安全性与可靠性。
5. 2nm竞赛与埃米级技术路线图
2nm级逻辑芯片正进入量产阶段,由全环绕栅极(GAAFET)晶体管、背面供电技术及不断演进的EUV策略共同推动。
2025年初,台积电已在宝山厂区使用其N2(2nm)工艺完成约5000片晶圆的风险试产,良率已达60%左右,显著高于大规模量产要求。预计到2025年底,月产能将达5万片晶圆,并在2026年进一步提升。其埃米级A16(1.6纳米,采用背面超级电源轨)和N2P(2nm“增强版”)工艺计划于2026年下半年推出。
三星也在加速推进。据称其2nmGAA工艺良率已从20–30%提升至40%以上,基于该工艺的Exynos 2600原型芯片目前已进入量产阶段,将于2025年下半年全面投产。
英特尔则通过背面供电与埃米级技术取得进展。其18A节点(1.8纳米级别)采用RibbonFET晶体管和PowerVia背面供电技术,计划于2025年下半年量产。相比前代工艺,该架构可提供25%更高频率、36%更低功耗以及30%更高密度。
2025年第一季度,台积电在全球晶圆代工市场占有率约为67.6%,三星以约7.7%位居第二。2025年第二季度,ASML交付了首台High-NA EUV光刻机(EXE:5200B),生产效率提升超60%,实现高吞吐量光刻。目前台积电在A16节点仍沿用Low-NA EUV,而英特尔计划在2027–2028年的14A节点引入High-NA EUV。
代表性初创企业:
AlixLabs:推进原子层刻蚀间距分割技术
瑞典初创公司AlixLabs开发了APS(原子层刻蚀间距分割)工艺。该技术通过对现有纳米结构进行刻蚀分割,在无需额外光刻掩模或EUV曝光的情况下实现10纳米以下特征尺寸。该工艺可集成到标准300毫米逻辑与DRAM晶圆的现有产线中,并支持氮化镓(GaN)等功率电子衬底,有效应对传统光刻的物理极限与高成本挑战。
Rapidus:提供2nm全环绕栅极(GAAFET)晶体管
日本初创企业Rapidus提供基于GAAFET晶体管的2nm逻辑芯片。其AI驱动的设计支持平台利用制造数据指导设计决策,并通过设计-制造协同优化实现实时对齐,大幅减少迭代周期。
6. 供应链地缘政治与产业回流
2025年,由美国政府主导的产业回流、近岸外包及政策驱动的供应链重组显著加速,地缘政治如今已主导半导体产业战略。然而,由于劳动力短缺、公用设施限制和审批延迟,项目执行风险依然高企。
截至2024年底,美国商务部完成向19家企业拨款306亿美元,其中台积电、英特尔和三星各自获得超60亿美元合同。2024年10月至2025年4月期间,半导体相关公告仅占全部回流活动的约5%,却带动了1026亿美元的资本支出,占同期外国直接投资总额的三分之二,并创造了超过17,600个新就业岗位。
企业层面的投资同样巨大:格罗方德计划投资160亿美元扩建其在佛蒙特州和纽约州的业务;英特尔正扩大其在亚利桑那州和俄亥俄州的运营;台积电则在亚利桑那州建设一座投资400亿美元的晶圆厂。全球晶圆厂建设热潮仍在持续。麦肯锡预计,到2030年,行业将在制造领域投入约1万亿美元。
截至2025年8月,印度已批准10个半导体项目,包括3D封装设施和大规模晶圆厂,并提供总计约16亿印度卢比(INR)的激励支持。
据麦肯锡报告,中国台湾地区成熟制程逻辑芯片工厂的运营成本比其他地区低35%,但建厂成本高10%;相比之下,中国大陆通过补贴,可使资本支出和运营成本分别降低40%和20%。然而,执行风险依然存在。台积电在德国德累斯顿、英特尔在马格德堡的项目均出现工期延迟。格罗方德通过在纽约州将前端晶圆厂与后端封装/光子设施配套建设,凸显了全栈式供应链去风险化所需的时间周期。
代表性初创企业:
SourceSentinel:确保防伪溯源
美国初创公司 SourceSentinel 提供名为 LeadID 的条码数据平台,为元器件全生命周期建立单一可信数据源。该条码可捕获并传递关键信息,供所有供应链伙伴访问,包括客户自定义数据、假冒识别指标和产品变更通知,从而帮助电子制造商实现精准追溯与准时化(JIT)生产。
iVP Semi:推动本地化半导体生产
印度无晶圆厂初创公司 iVP Semi 专注于为电动汽车、可再生能源、工业自动化和消费电子领域提供本地制造的高性能功率半导体模块,产品线包括 MOSFET、DC-DC 转换器、LDO 稳压器、EV 充电器、整车控制器(VCU)等。该公司帮助电子制造商减少进口依赖,降低供应链风险、成本与交付延迟。
7. 光子学与量子集成
凭借突破带宽瓶颈和推动量子技术标准化的潜力,光学I/O与量子就绪型半导体正从实验室演示迈向主流技术路线图。共封装光学(CPO)与硅光子学正快速进入产业化阶段。
英伟达在2025年GTC大会上展示了基于CPO的交换机——Spectrum-X(以太网)和Quantum-X(InfiniBand),作为下一代AI集群的核心。相比传统模块,这些交换机具备10倍更强的抗干扰能力、63倍更高的信号完整性,以及3.5倍更优的能效。Spectrum-X提供100–400 Tb/s聚合带宽;Quantum-X通过144个800 Gb/s端口实现115 Tb/s吞吐量,并采用液冷设计以支持长期运行。两者将于2025或2026年正式商用。英伟达的路线图从1.6 Tb/s光引擎起步,与台积电COUPE平台对齐,后续将通过CoWoS封装实现6.4 Tb/s,并最终在单一封装内达到12.8 Tb/s,标志着先进封装中集成光子学浪潮的到来。博通(Broadcom)已在其32套CPO系统上累计运行5万小时,目标是到2025年底突破20万小时。2025年3月,LPO-MSA联盟发布了首个面向100/200/400/800 G的无DSP光模块同步规范,表明早期标准正在快速完善。
在量子领域,Sparrow公司完成2150万欧元A轮融资,用于商业化确定性片上单光子源;QuiX Quantum则融资1500万欧元,目标是在2026年打造全球首台基于单光子的通用量子计算机。
2025年将成为关键转折点,尤其是AI互连网络的部署。Yole Group预测,硅光子集成电路芯片市场将以45%的复合年增长率扩张,到2029年规模将超8.63亿美元,印证生态系统正在快速扩展。一项近期经同行评审的研究已成功将300毫米产线兼容的超导量子比特(transmon)集成至CMOS工艺中,相干时间(T1、T2)超过100微秒,表明大规模量子制造初具可行性。与此同时,Quantum Motion公司的Bloomsbury芯片在22FDX工艺节点上集成量子比特与低温控制电路,弥合了量子与经典计算的集成鸿沟。
代表性初创企业:
NcodiN:提供片上光互连网络
法国公司 NcodiN 开发了名为 NConnect 的片上光网络(Optical NoC)。其激光源体积极小,能耗低于0.1皮焦/比特(pJ/bit),每平方米可支持超10,000个设备,单位面积带宽远超铜互连。该技术帮助半导体公司规避铜互连瓶颈,高效构建芯粒(chiplet)架构。
Deteqt:制造金刚石量子传感器
澳大利亚初创公司 Deteqt 提供金刚石量子传感器。其方案将毫米级金刚石晶体集成于定制硅芯片之上,无需冷却或笨重光学系统,即可将环境磁场转化为高精度、矢量解析的数据。此外,公司将全部传感与处理电路集成于手持式、小型化、轻量化、低功耗(SWaP)设备中,适用于导航、资源勘探、生物医学及环境监测等领域。
8. 边缘AI与领域专用处理器
边缘AI现已广泛用于终端设备上的推理任务,这一趋势体现在硅IP收入的增长上。
AI数据中心与高端边缘设备对芯粒、子系统和多芯片集成的需求激增,推动2025年第一季度电子设计自动化(EDA)与硅IP总收入同比增长12.8%,达50.98亿美元(2024年同期为45.22亿美元)。
AI PC正迅速普及。IDC预测,到2026年,57%出货的PC将集成神经网络处理单元(NPU)。例如,英特尔Lunar Lake NPU算力达48 TOPS,高通Snapdragon X Elite则为45 TOPS。这些性能指标已确立企业级设备的基准,并符合微软Copilot+对“至少40 TOPS”的要求。
此外,“生成式AI智能手机”数量快速增长。Counterpoint预计,到2025年全球将有超4亿台此类设备,占智能手机总市场的近三分之一。
代表性初创企业:
EDGED:开发神经网络芯片
英国初创公司 EDGED 为边缘计算提供神经网络芯片。其架构采用专用计算模块,集成矩阵与向量运算单元,避免了传统方案中需多次复制可编程核心的做法。该设计减少了指令解码开销,使张量处理器单元(TPU)能更高效地打包数据,从而在有限功耗下显著提升响应速度与性能。
Anari:提供个性化芯片
美国初创公司 Anari 提供AI驱动的可重构个性化芯片,其能效优于传统GPU,可快速定制计算基础设施。例如,其Thor X芯片结合硬件加速与机器学习模型,实现更快数据处理。该“云上芯片”(system-on-cloud)技术还利用语义分割处理云端数据,用于3D应用。由此生成的高精度图像信息可应用于地理空间情报、3D建筑建模、数字孪生及元宇宙等领域。
9. 宽禁带功率半导体(SiC 与 GaN)
碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等宽禁带半导体正从专用器件向多个行业的基础架构演进。
在GaN领域,Navitas创下新高:2024年设计中标额达4.5亿美元,GaN收入同比增长超50%,主要得益于电动汽车和数据中心的应用。2024年下半年,GaN与SiC已开始进入数据中心。截至去年,全球SiC制造领域的投资总额已超过300亿美元。
英飞凌(Infineon)正为GaN和SiC开辟新的产能规模。公司计划生产300毫米GaN晶圆,首批客户样品将于2025年第四季度交付,目标是使GaN成本结构向硅基器件靠拢。此前,英飞凌已于2025年第一季度推出首款200毫米SiC器件,并在马来西亚居林(Kulim)和奥地利菲拉赫(Villach)工厂分阶段爬坡量产。在美国,MACOM正加速GaN基础设施建设。依托《芯片法案》最高7000万美元的资助,该公司宣布了一项为期五年、总投资3.45亿美元的扩产计划。在欧洲,安世半导体(Nexperia)也在拓展其宽禁带半导体能力——将在汉堡投资2亿美元,用于提升200毫米产线上SiC和GaN的产能。
据Yole预测,SiC器件(尤其是车用产品)到2030年将实现约103亿美元的年化营收(复合年增长率约20%)。GaN功率器件的增长则将由超快充、工业电源及AI数据中心供电系统驱动。2023年,约28%的纯电动车(BEV)电驱逆变器已采用SiC。随着800V高压平台(SiC含量更高)的普及,这一比例持续上升。2025年第二季度,美国快充网络中功率≥250 kW的充电端口占比从24%升至38%。
在AI数据中心,基于GaN的高密度直流转换与高压直流(HVDC,约800V)架构正日益普及。
产学研合作也在支撑未来技术管道。例如,安世半导体在汉堡工业大学(TU Hamburg)设立教席,以加速宽禁带半导体研究,并为全球能源转型培养下一代人才。
代表性初创企业:
EPINOVATECH:开发基于GaN的芯片
瑞典初创公司 EPINOVATECH 为晶体管器件制造GaN芯片。其专有技术“NovaGaN”在纳米尺度强化硅衬底,并在其上沉积一层薄GaN材料。该工艺提升了热导率、击穿耐压和开关速度,从而优化芯片尺寸并降低功耗。由此,EPINOVATECH 的方案实现了可扩展、高性价比的微芯片系统。
NXPEC Technologies:构建先进电力电子转换器
印度公司 NXPEC Technologies 提供先进的电力电子转换器。其硅基充电器支持车载与非车载应用,而基于GaN的车载充电器则具备超紧凑、轻量化设计,并集成健康状态监测功能。这些产品帮助电动汽车企业减少内部开发负担,加速上市进程。
10. 可持续发展与碳减排
尽管半导体产业预计到2030年市值将接近1万亿美元,但其2024年已排放约1.9亿吨温室气体,可持续发展已成为行业重大挑战。
据威立雅(Veolia)报告,一座大型晶圆厂每日可消耗159万立方英尺水量,产生超5000吨废弃物,并使用逾10万兆瓦时(MWh)电力。仅集成电路(IC)制造一项,每年就造成约1.85亿吨二氧化碳当量排放。水资源压力同样严峻,到2035年,单座晶圆厂每日或需高达500万加仑的超纯水。台积电一家在2023年就使用了1.01亿立方米水——生产1000加仑超纯水需消耗1400–1600加仑市政供水。
台积电截至2024年底已签约4.4吉瓦(GW)可再生能源,每年可避免约523万吨二氧化碳当量排放。公司还提前其RE100目标,计划2030年实现60%绿电使用,2040年达成100%。苹果公司也已获得26家半导体供应商对含氟温室气体(F-GHG)减排超90%的承诺。
代表性初创企业:
Hard Blue Si-Carbons:提供再生碳化硅
美国初创公司 Hard Blue Si-Carbons 利用农业废弃物生产再生碳化硅,用作半导体研磨材料。不同于传统将生物质转化为燃料的做法,该公司从农业残余物中回收碳化硅,并通过化学方法将其与碳结合,制成具有工业价值的碳化硅产品。
Digitho:提升芯片可追溯性
加拿大初创公司 Digitho 提供“裸芯标识即服务”(die identification as a service),以增强芯片全生命周期追溯能力。鉴于现代半导体包含来自多条供应链的子部件,追踪极为困难。为此,该公司开发了数字光刻技术,使制造商能在晶圆级对每颗芯片进行唯一标识,并结合数字验证技术收集历史数据,支持材料回收。此举推动循环经济,减少对原生原材料的依赖。
参考文献:
[1]Discover the Top 10 Semiconductor Trends To Watch in 2026[EB/OL].(2026-1-9)https://www.startus-insights.com/innovators-guide/semiconductors-trends-innovation/
[2]Wolfspeed makes 300mm SiC breakthrough[EB/OL].(2026-1-12)https://compoundsemiconductor.net/article/123216/Wolfspeed_makes_300mm_SiC_breakthrough
[3] MIT's chip stacking breakthrough could cut energy use in power-hungry AI processes[EB/OL].(2026-1-14)https://www.livescience.com/technology/computing/mits-chip-stacking-breakthrough-could-cut-energy-use-in-power-hungry-ai-processes