全球半导体光刻胶专利运营概述

专利运营是指企业为获得和保持市场竞争优势，运营专利制度提供的专利保护手段及专利信息，谋求获取最佳经济效益的总体性谋划，其具体模式包括专利许可、转让、质押融资、作价入股、专利标准化等。本文以科睿唯安的IncoPat全球专利数据库为主要数据源，从全球、中国、上海3个层面，对半导体光刻胶专利运营总体情况予以简要分析。

一、全球层面

全球专利中，失效专利占49%，有效专利占40%，审中专利占11%。日本、美国的失效专利占比均超过50%，韩国和中国的失效专利占比约为42%。导致专利失效的原因很多，专利权因保护期届满而终止、因未缴专利年费或被宣告无效而提前终止等皆有可能。

专利转让持续活跃，国际光刻胶巨头积极开展技术引进。自2004年以来，全球半导体光刻胶的年转让专利数量保持在数百件，2015年达到近千件，表明相关领域的技术运营和实施热度较高。专利受让人排名情况显示，信越化学、东京应化、富士胶片、JSR、IBM、AZ电子材料等日美光刻胶领先机构对技术引进的兴趣尤为浓厚，试图通过专利转让的方式强化其技术和市场部署。

图1 半导体光刻胶全球专利转让趋势

图2 半导体光刻胶全球专利受让人排名

国际光刻胶巨头亦是专利诉讼和复审无效的主体。诉讼方面，诉讼当事人主要有日本的东京应化、美国的希普利、韩国的东进世美肯等国外企业，诉讼类型包括行政诉讼、侵权诉讼、无效诉讼等，反映半导体光刻胶厂商之间技术竞争激烈。复审无效方面，复审无效请求人包括罗门哈斯、日产化学、日立化成、东京应化、住友化学、信越化学、台积电、IBM等领先机构。